公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

溅镀法（Sputtering）：（1）上平行板：装载溅镀金属的靶材；下平行板：作为溅镀对象的玻璃基板。（2）将气（Ar 2 ）通入反应舱中形成等离子体；离子（Ar + ）在电场中被加速后冲撞靶材；受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。

制版（platemaking）是将原稿成印版的统称。赓旭光电光学玻璃可用于制造光学仪器中的滤光片、透镜、棱镜、反射镜及窗口等。有将铅活字排成活字版，以及用活字版打成纸型现浇铸成凸版和将图像经照像或电子分色获得底片，用底片晒制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影响印版质量的因素，主要有显影液浓度、显影温度和显影时间以及显影液的循环搅拌情况、显影液的疲劳程度等。

PS版的显影时间主要由PS版的种类、曝光时间及显影液的浓度、显影温度等条件来确定。当上述条件确定制版机后，PS版的显影程度与显影时间成正比关系，即显影时间越长，显影越彻底。但显影时间过长会产生网点缩小等现象。

随着冲版量的不断增加和空气中的CO2不断溶入，显影液中的OH-浓度会下降，pH值将越来越低，显影时间应慢慢变长，至后在正常曝光条件下PS版无法显影，这就是显影液疲劳的现象。倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。但随着显影液pH值的降低，碱液对氧化层和涂层树脂的腐蚀力下降，版材的网点再现性及耐印力比用新配制的显影液好一些。但必须注意两点，一是冲版量必须控制在显影液容许范围内；

掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。在制版中影响印版质量的因素，主要有显影液浓度、显影温度和显影时间以及显影液的循环搅拌情况、显影液的疲劳程度等。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金属铬薄膜，通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备，其制作过程就是典型的光刻工艺过程，包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。