公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

图形扩展和收缩即从栅极开始的尺寸操作，例如栅极处的注入层尺寸扩大了。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。常见的图案包括光标、光刻对准图案和曝光i灯光控制图形、测试关键图形、光学对准目标图形、划线槽图形以及其他LOGO名称、版本等。 

集成电路工业中的“掩模”是光掩模屏蔽数据:在半导体制造的整个过程中，部分是从布局到晶片制造的过程，即光掩模或掩模制造。这部分是流程连接的关键部分，也是流程中昂贵的部分。i较高的部分也是限制小线宽的瓶颈之一。

硅片上带了电路原理图的样图后，就到刻蚀机出场，刻蚀机等于木工的锯子、斧子、木工凿、刨刀。刻蚀机按图工程施工，在硅片表层手工雕刻出三极管和电源电路。集成ic关键是精密度规定高。纳米技术精密度是啥定义呢？是人们人眼没法辨别的，大约等于一条发丝的5000分之一纳米技术细微。光刻技术好多个核心部件：灯源：务必平稳、高品质地出示指i定光波长的光线。动能控制板：就是说开关电源。开关电源要平稳、输出功率要充足大，不然灯源超声波发生器没法平稳工作中。大、稳、一起要考虑到经济发展特性。耗电量太高，顾客就用不了。 

为了制造一款芯片需要几百道工序，光罩也是不只一张的，在14nm工艺制程上，大约需要60张光罩，7nm可能需要80张光罩甚至更多。当然光罩的品质要求是不同的，对于某些对精度要求很高的工序，相对应的光罩对精度的要求时的，比如晶体管相关的光罩， 而对精度要求不那么高的工艺，比如Pad（打线孔）等要求就低一些，光罩价格也便宜一些。 先进制程对光罩精度的要求越来越高，同时不能有缺陷，所以光罩制造后的检查（Inspection）也很重要。