公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻工艺

是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用曝光和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术.

光刻板的应用光刻技术主要应用于半导体器件，集成电路制造过程中

光学玻璃是指能改变光的传播方向，并能改变紫外、可见或红外光的相对光谱分布的玻璃。狭义的光学玻璃是指无色光学玻璃;广义的光学玻璃还包括有色光学玻璃、激光玻璃、石英光学玻璃。赓旭光电光学玻璃可用于制造光学仪器中的滤光片、透镜、棱镜、反射镜及窗口等。由光学玻璃构成的部件是光学仪器中的关键性元件。

光学掩模板的应用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成电路）芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。

光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的曝光，这个时候的掩膜也可称为光罩。

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