企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 江苏 苏州 |
联系卖家: | 马经理 女士 |
手机号码: | 17710798515 |
公司官网: | szybgd.tz1288.com |
公司地址: | 苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室 |
发布时间:2021-04-18 07:08:00 作者:苏州制版
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻板本体的外部边缘增设一保护环,保护环具有多种开孔,以便在保护环处的硅片的边缘处刻出晶粒,将光刻板本体处的硅片保护起来,硅片边缘刻出晶粒后,边缘的不合格情况通过目测可以清楚看出,能有效防止混料情况;光刻机的结构和工作原理:光刻机的光源有:激光,紫外光、深紫外光、极紫外光。利用本实用新型刻出的硅片,在高压测试时,能防止漏电打火,安全性能具有较大提高
业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,后应用于光蚀刻。⑤上保护胶时,一定要均匀施胶,不能太厚,以免干后导致涂层龟裂和掉版。
光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上,并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中,光敏树脂是光刻胶的关键成分。
石英掩膜版
苏达掩膜版
使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版
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